硅衬底的 产业化苦旅
文章还写道,硅衬底技术实验室阶段取得成功,只是万里长征走完了第一步,研发成功和实现量产是两个完全不同的阶段。在硅衬底技术产业化生产过程中,成品率、产品的一致性和均匀性是非常关键的指标,这其中要突破的难题很多。
以硅衬底腐蚀为例,在实验室阶段可行,到试生产阶段却 失灵 了。 CTO赵汉民说,实验室阶段,由于产品数量少用于硅衬底腐蚀的液体浓度与时间都很容易掌控,而到了试生产阶段,一方面浸泡的硅衬底数量多,另一方面市场上没有与硅衬底相匹配的腐蚀设备,这就导致产品良率大幅下降,刚开始时良率甚至只有5%。没办法,只能买回相近设备,凭经验一点点改造。 这一改就是一年多!
天道酬勤。2009年晶能光电实现硅衬底小功率LED芯片量产,并迅速在数码产品领域确立了行业优势地位。可他们没有时间停歇,LED在领域的应用市场已经开始增长。2010年晶能光电开始了新一代硅衬底大功率LED芯片的试制及产业化。
跌跌撞撞的 找钱 路
文章最后写道,技术并非是要跨越的唯一 门槛 ,资金也是其中绕不开的 拦路虎 。理论上,从基础科研的实验室阶段,到成果转化的中试阶段,再到形成生产力的产业化阶段,这3个阶段的投入比应该是1:10:100。而一台核心生产设备MOCVD就需要2000多万元。公司刚起步时只有三台设备,一台搞研发,两台搞生产。2011年逐步买进了二十多台设备,资金投入,可想而知。
2005年,晶能光电的 找钱 之路拉开帷幕。银行、投资商、民营企业 凡是当时能想到的或许可以筹些钱的地方,王敏一个没落下。 听到技术时他们都很兴奋,但了解到这还只是个实验室技术,能否成功还是未知数,考虑到投资风险,最后又都临阵退却了。
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